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芯片制造速度起飞!台积电、新思科技首次采用NVIDIA计算光刻平台:最快加速60倍 |
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2024-3-19
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3月19日 信息,GTC 2024大会上,NVIDA正式 宣告,为加快下一代先进半导体芯片的创造速度并克服物理 制约,TSMC (台积电)和Synopsys(新思科技)将在生产中领先 使用NVIDIA计算光刻平台 。 家喻户晓,台积电是 寰球领先的晶圆代工厂,而新思科技则是芯片到系统设计解决 方案的领导者 。二者已经将 NVIDIA cuLitho加快计算光刻光平台,集成到其软件、创造工艺和系统中,在加快芯片创造速度的同时,也加快了对 将来最新一代NVIDIA Blackwell架构GPU的 支撑 。 在现代芯片创造过程中,计算光刻是至关主要的一步,是半导体创造中最 苛刻的工作负载,需求大规模的数据 核心,而随着 工夫的推移,硅小型化演进过程呈指数级放大了计算的需求 。 假如 使用CPU来计算,每年需求在计算光刻上 消费数百亿个小时 。 比方一个典型的芯片掩模,就需求3000万小时或更长期的CPU计算 工夫 。借助加快计算,350个NVIDIA H100 GPU现在 能够取代40,000 CPU 系统,从而缩小生产 工夫,同时减低成本、空间和功耗 。 据悉,NVIDIA的计算光刻平台 能够将半导体创造最密集的计算工作负载加快40-60倍 。 NVIDIA还推出了新的生成式AI算法,该算法将进一步 加强cuLitho的效率,与目前基 CPU计算的 步骤相比,极大地改良了半导体创造工艺 。 “计算光刻是芯片创造的基石,”NVIDIA 独创人兼CEO黄仁勋说 。“我们与台积电和新思科技合作在cuLitho上工作, 利用加快计算和生成式人工智能,为半导体扩铺开发了新的领域 。” |
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